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預處理系統

  

                                                  預處理系統                                                     PLC控制盤

 

 1)預處理系統設計與選用的主要依據

l         采用分析儀的設備或流程系統的工藝過程及其特點,分析儀在該工藝流程中的作用

l         取樣點的位置、環境狀況以及取樣點周圍樣品的分布狀態及物理化學參數

l         被測組分的平均含量,以及可能出現的最高與最低含量,工藝過程中的變化頻率

l         非測量組分的平均含量及其在工藝過程中的變化范圍,考慮消除措施及抗干擾措施

l         樣品中的水含量,對大多數氣體分析儀具有干擾作用,應采取相應措施加以限制或消除

l         樣品壓力或壓差及其波動范圍,多數分析儀對樣品壓力及流量比較敏感,需要一定的穩壓穩流措施

l         樣品溫度變化范圍及其平均值,以便選擇合理的取樣探頭結構及核算其使用壽命,同時,考慮分析儀是否采用溫度補償措施

l         樣品中機械雜質及其含量;灰塵含量是設計取樣探頭及過濾器的重要依據,根據灰塵平均含量,核算過濾器更換或維護的周期;灰塵顆粒尺寸變化較大時,采用不同的多種過濾方式

l         樣品中腐蝕性物質的平均含量及可能的最高含量,與選擇取樣系統的材料、分析儀類型、過濾方式等有關

l         取樣點樣品含量發生變化到分析儀穩定所允許的時間(響應時間),需要考慮響應時間是否能滿足工藝生產的要求,否則,要從儀器選型、取樣點、分析儀安裝位置考慮盡量使距離縮短

l         分析儀及取樣系統安裝地點的安全防爆等級,以及是否需要PLC全自動控制采樣,也是取樣系統選型的重要依據;

2)預處理系統對樣品進行處理后的要求

目的在于改善樣品的物理、化學特性,適應分析儀的正常工作,要求如下:

l         樣品中灰塵和機械雜質一般不超過0.01g/m3

l         樣品中水蒸汽必須排除,一般含水量不超過0.5g/m3

l         樣品中腐蝕性雜質,如硫化氫、氨等,一般不超過0.01g/m3

l         樣品溫度一般不超過40,最好是室溫

l         進入分析儀的壓力盡量接近大氣壓,以簡化分析儀的設計要求

l         控制樣品流量,大多數分析儀所需流量為0.2~1L/min,且要求流量保持穩定

l         消除或減少樣品中對分析儀有干擾作用的組分,但應避免改變待測組分的含量

 

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